產(chǎn)品詳情
學(xué)術(shù)或研發(fā)單位中之電路布局較為簡易,harmonic單晶硅諧波傳動CSF-17-80-2A-R 一套電路布局可全部寫在一片光罩中,或甚至多重復(fù)制。加上使用之硅晶圓尺寸較小,配合使用之光罩本來就不大。所以搭配使用之硅晶圓曝光機臺為一般的「光罩對準(zhǔn)機」(maskaligner,如圖2-7)。換言之,一片晶圓只需一次對準(zhǔn)曝光harmonic單晶硅諧波傳動CSF-17-80-2A-R ,便可進行之后的顯影及烤干程序。但在業(yè)界中,使用的晶圓大得多,我們不可能任意造出7吋或9吋大小的光罩來進行對準(zhǔn)曝光:一來電子束書寫機在制備這樣大的光罩時,會耗損巨量的時間,極不劃算;二來,大面積光罩進行光蝕刻曝光前與晶圓之對準(zhǔn),要因應(yīng)大harmonic單晶硅諧波傳動CSF-17-80-2A-R 面積精密定位及防震等問題,極為棘手!所以工業(yè)界多采用步進機(stepper)進行對準(zhǔn)曝光