產(chǎn)品詳情
離子注入 離子注入是亞微米工藝中最常見的摻雜方法。將要摻入的雜質(zhì)harmonic硅片清洗諧波SHD-14-50-2SH ,如砷 (As)、磷(P)、硼(B)注入離子注入機(jī),經(jīng)過電離,再由高電壓或磁場(chǎng)控制并加速,harmonic硅片清洗諧波SHD-14-50-2SH高能雜質(zhì)離子穿透涂膠硅片的表面,最后進(jìn)行去膠和清洗硅片完成離子注入。
(5)薄膜生長(zhǎng) 薄膜生長(zhǎng)工藝用來加工出半導(dǎo)體中的介質(zhì)層、金屬層。薄膜工藝包括化學(xué)氣相淀積(CVD)和金屬濺射(物理氣相淀積,PVD)。薄膜產(chǎn)生后需要使用快速退火裝置(RPT)修復(fù)離子注入引入的襯harmonic硅片清洗諧波SHD-14-50-2SH損傷,以及完成金屬的合金化。最后使用濕法清洗設(shè)備進(jìn)行硅片清洗。