產品詳情
德國原裝進口 DIENER 等離子清洗機 NANO 清洗/活化/蝕刻/涂層
清洗： 工藝部件的表面通過離子束的物理轟擊而被清洗，也可與特定氣體發(fā)生化學反應從而被清洗，清洗掉的工藝污染物轉化為氣相被排出。
如：去除有機污染物，去除納米級微粒，去除氧化層。
活化：工藝部件表面通過氧氣或空氣處理后，會在表面形成氧原子團，這樣能使部件表面親水性和表面張力提高，能使涂料和粘接劑更好的附著于上，提高其的粘合力和附著力。
如：PDMS鍵合，粘接前的預處理，涂裝前的預處理，印刷前的預處理。
蝕刻：工藝部件表面通過特定氣體達到精確濺射，表面材料被剝離，轉變成氣相被排出，濺射后的材料表面積增大并更易濕潤，也使材料表面更粗糙化。通過改變工藝參數可使材料表面蝕刻出一定的形狀。
如：硅蝕刻，PTFE/PFA/FEP蝕刻，光刻膠去除。
涂層：使工藝部件表面發(fā)生等離子聚合反應，前驅單體導入等離子真空腔室后使其電離并沉積至材料表面，隨即發(fā)生聚合反應，形成聚合物層。
如：疏水層，親水層，保護/阻隔層，干潤滑層，疏油層。
等離子清洗機NANO
小型生產型設備NANO可通過不同配置實現各種
等離子工藝，清洗、活化、蝕刻、涂層。高性價
比的設備可滿足各種材料樣品的中小型生產。
配置可選：主要技術參數：
1. 手動控制
2. *根據工藝要求不同，可設定功率、壓強、氣體流量等參數
3. 雙路工作氣體，氣體流量通過針型閥流量計控制
4. 反應艙為高硼硅玻璃材質，Φ 240mm、長 400 mm，容積18L
5. 發(fā)生器頻率100KHz,功率0~500W
6. 運行模式為手動
7. 真空泵的排氣能力為14 m3/Hour，原裝進口干泵，Kashiyama
8. *配有壓力傳感器，可根據工藝要求設定壓力值
9. 外尺寸：寬 560 mm、高 600-860 mm、深 600 mm
10. 電源電壓：單相AC230V 16A
