產(chǎn)品詳情
等離子清洗機(jī)FEMTO
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層
的功能。可以應(yīng)用于多種領(lǐng)域。
l 硅蝕刻
l PTFE蝕刻
l 去除光刻膠
l 提高耐溫塑料對于涂料和粘結(jié)劑的附著性
l 疏水層的沉積
l 親水層的沉積
l 保護(hù)或絕緣層的沉積
l 防擴(kuò)散層
主要技術(shù)參數(shù)：
1. 全自動(dòng)控制
2. *根據(jù)工藝要求不同，可設(shè)定功率、壓強(qiáng)、氣體流量，時(shí)間等參數(shù)
3. 單路工作氣體，氣體流量通MFC流量計(jì)控制
4. 反應(yīng)艙為不銹鋼，?100 mm*L278mm，容積約為2.2L
5. 射頻頻率13.56MHz,功率0~100W
6. 電極材質(zhì)為鋁/不銹鋼
7. 運(yùn)行模式為手動(dòng)
8. 真空泵的排氣能力為4m3/Hour，配有強(qiáng)制進(jìn)氣閥
9. *配有壓力傳感器，可根據(jù)工藝要求設(shè)定壓力值
10. 外尺寸：W310*D420*H330mm
11. 電源電壓：單相AC230V 16A
